導體芯片廠超純水 TOC<10ppb 顆粒度(PARTICLE)達0.5um≤200PCS/L 二氧化硅SiO2<5ppb 電阻率≥18MΩ.cm(25℃) 采用高純度PVDF管路 封裝測試行業及相關行業超純水 TOC<50ppb 顆粒度(PARTICLE)達到0.2um<3-5PCS/ML 二氧化硅SiO2<10ppb 電阻率≥16MΩ.cm(25℃) .

涂裝電鍍用純水設備

1.電鍍行業用電鍍純水概述 電鍍涂裝行業中，為了增加鍍件表面光潔度、亮度、附著力，電鍍液的配制需要用電導率在15uS/cm以下的純水; 另外在鍍件漂洗時也需用電導率在10uS/cm以下電鍍純水來清洗，電鍍行業用水處理系統包括電鍍前電鍍液配制用純水系統、電鍍漂洗廢水中稀有金屬回收漂洗水循環利用電鍍廢水處理系統。通常系統由預處理,超濾，反滲透(RO)，離子交換，EDI設備等組成，以滿足電鍍行業對各種水質的要求。

2.制備電鍍純水的工藝流程

電鍍純水的工藝大致分成以下幾種：

1）、采用離子交換方式，其流程如下：自來水→電動閥→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟化水器→中間水箱→低壓泵 →精密過濾器→陽樹脂床→陰樹脂床→陰陽樹脂混合床→微孔過濾器→用水點

2）、采用兩級反滲透方式，其流程如下：自來水→電動閥→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟化水器→中間水箱→低壓泵 →精密過濾器→一級反滲透→PH調節→混合器→二級反滲透(反滲透膜表面帶正電荷) →純水箱→純水泵→微孔過濾器→用水點

3）、采用高效反滲透加EDI方式，其流程如下：自來水→電動閥→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟化水器→中間水箱→低壓泵 →PH值調節系統→高效混合器→精密過濾器→高效反滲透→中間水箱→EDI水泵 →EDI系統→微孔過濾器→用水點

3.電鍍純水設備特點

電鍍純水設備傳統的制備工藝通常是采用離子交換樹脂進行制取，但采用離子交換樹脂通常需要經常性的進行樹脂再生，即耗費物力又浪費人工. 我們公司經過多年實踐，同時結合的膜分離技術，采用低壓反滲透加離子交換系統(或EDI)相結合用來制備電鍍超純水，該工藝與傳統工藝相比具有運行成本低，運行可靠。與工藝相比具有造價低,反滲透工藝技術安全可靠。

4.電鍍純水機應用領域

電鍍(鍍金、鍍銀、鍍絡、塑料電鍍、鍍鉻、鍍鋅)等用純水、玻璃鍍膜用電鍍超純水

超聲波清洗、超音波清洗用純水、化學鍍、電泳用純水或超純水

汽車、家電、建材產品表面涂裝、清洗純水或超純水

其它要求的表面處理用純水或超純水。

化學化工用純水設備,紡織印染、造紙用純水設備

5.工藝流程

1） 預處理系統-反滲透系統-中間水箱-粗混合床-精混合床-純水箱-純水泵-紫外線殺菌器-拋光混床-精密過濾器-用水對象≥18MΩ.CM)(傳統工藝)

2）預處理-反滲透-中間水箱-水泵-EDI裝置-純化水箱-純水泵-紫外線殺菌器-拋光混床-0.2或0.5μm精密過濾器-用水對象(≥18MΩ.CM)(工藝)

預處理-一級反滲透-加藥機(PH調節)-中間水箱-第二級反滲透(正電荷反滲膜)-純水箱-純水泵-EDI裝置-紫外線殺菌器-0.2或0.5μm精密過濾器-用水對象(≥17MΩ.CM)(工藝)

3） 預處理-反滲透-中間水箱-水泵-EDI裝置-純水箱-純水泵-紫外線殺菌器-0.2或0.5μm精密過濾器-用水對象(≥15MΩ.CM)(工藝)

4）預處理系統-反滲透系統-中間水箱-純水泵-粗混合床-精混合床-紫外線殺菌器-精密過濾器-用水對象 (≥15MΩ.CM)(傳統工藝)

6.設備特點

為滿足用戶需要，達到符合標準的水質，盡可能地減少各級的污染，延長設備的使用壽命、降低操作人員的維護工作量.在工藝設計上，取達國家自來水標準的水為源水，再設有介質過濾器，活性碳過濾器，鈉離子軟化器、精密過濾器等預處理系統、RO反滲透主機系統、離子交換混床(EDI電除鹽系統)系統等。